特許

J-GLOBAL ID：200903093755720040

液体洗浄剤組成物

発明者： 安増 知子 ,  中川 龍一 ,  永島 博美 ,  松尾 隆雄 ,  阪谷 武信
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-174269
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001693
出願日： 1996年06月13日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 泡立ち性と低温安定性の良好な液体洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 A成分及びB成分を含む液体洗浄剤組成物。(A)成分:一般式Iのアミドカチオン系界面活性剤および一般式IIのアミドアミン塩系界面活性剤の1種以上(R1はC7〜21のアルキル基またはアルケニル基、R2、R3及びR4はC1〜6のアルキル基またはヒドロキシアルキル基、nは2〜6の整数、Xはハロゲンまたはメチル硫酸またはエチル硫酸を示す。)(Yは無機酸または有機酸を示す。)(B)成分:一般式IIIのアニオン性界面活性剤(R5はR1と同様の基、R6は水素またはメチル基、nは0または1、R7は水素または-C2H4COOM、Aは-COOMまたは-SO3M、Mは水素、アルカリ金属等を示す。)

請求項（抜粋）：

下記の(A)成分および(B)成分を必須成分として含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。(A)成分:一般式(I)で表されるアミドカチオン系界面活性剤および一般式(II)で表されるアミドアミン塩系界面活性剤から選ばれる少なくとも1種【化1】(式中、R1は炭素数7〜21のアルキル基またはアルケニル基、R2、R3及びR4は炭素数1〜6のアルキル基またはヒドロキシアルキル基、nは2〜6の整数、Xはハロゲン原子またはメチル硫酸またはエチル硫酸を示す。)【化2】(式中、R1、R2、R3およびnは前記一般式(I)と同じ、Yは無機酸または有機酸を示す。)(B成分):一般式(III)で表されるアミドアミノ酸系界面活性剤、一般式(IV)で表されるアミドカルボン酸塩系界面活性剤および一般式(V)で表されるα-スルホ脂肪酸誘導体系界面活性剤から選ばれる少なくとも1種【化3】(式中、R5は炭素数7〜21のアルキル基またはアルケニル基、R6は水素またはメチル基、nは0または1、R7は水素または-C2H4COOM、Aは-COOMまたは-SO3M、Mは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、置換されていてもよいアンモニウムまたはアルカノールアミンを示す。)【化4】【化5】(式中、R10は、炭素数6〜20のアルキル基、Eは、炭素数1〜6のアルキル基、または(CpH2pO)qF、pは2〜4の整数、qは3〜25の数、Fは水素または炭素数1〜4のアルキル基、Mは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、置換されていてもよいアンモニウムまたはアルカノールアミンを示す。)

IPC (7件)：

C11D 1/52 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/10 ,  C11D 1/28 ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/65 ,  C11D 17/08

FI (7件)：

C11D 1/52 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/10 ,  C11D 1/28 ,  C11D 1/62 ,  C11D 1/65 ,  C11D 17/08