特許
J-GLOBAL ID：200903093759836816
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256561
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104821
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 レーザービーム、集束イオンビーム等のエネルギー線によりフォトマスクの残留欠陥を修正することにより生じる透過率の低下等を回復させる。【解決手段】 フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気を用いて、フォトマスクのガラス部1又は位相シフター部をエッチングすることにより、エネルギー線14を用いた修正による残留欠陥16修正部における透過率の低下等を補正する。
請求項（抜粋）：
フッ酸蒸気又はフッ酸を主成分とする溶液の蒸気を用いて、フォトマスクのガラス部又は位相シフター部をエッチングすることにより、エネルギー線を用いた修正による残留欠陥修正部における光学特性の変化を補正したことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
