特許
J-GLOBAL ID:200903093767300348

荷電粒子ビームの形状制御を可能とする装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-000110
公開番号(公開出願番号):特開平5-266787
出願日: 1993年01月04日
公開日(公表日): 1993年10月15日
要約:
【要約】【目的】荷電粒子ビームの形状制御を可能とする装置を提供することを目的とする。【構成】荷電粒子の発生源とそれに対向する収集電極との間に生成されるビームに対して、前記発生源とほぼ同一面上に配置された少なくとも1つの抵抗領域とその抵抗領域を挟む少なくとも2つの制御電極とで装置を構成する。前記制御電極に電位がかけられた際に、前記抵抗領域に生じる電位が前記ビームの形状を希望するものとするように前記抵抗領域の抵抗性状を選択することに依って、初期の目的を達成する。
請求項(抜粋):
粒子発生源(32,70,80,82)から飛来する荷電粒子ビームの形状制御を可能とする装置であって、前記発生源はこれらの粒子を収集するための収集電極と連携し、前記装置が少なくとも1つの抵抗領域(56;72;78;78a,78b;78c,78d;84;84a,84b;90a,90b;118)と少なくとも2つの制御電極(48;52,54;74,76;88;86,88aから88b;92,94,96;88,98;88,100;108,120)とを含み、前記抵抗領域および前記制御電極は発生源とほぼ同一レベルに配置され、前記制御電極はまた抵抗領域の両側に配置されてこの領域を分極化するように働き、抵抗領域の電気的抵抗性状は、制御電極が適切に分極化された際にその電位分布が発生源からのビームを希望する形状と出来るように選択されていることを特長とする荷電粒子ビームの形状制御装置。
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開昭62-290052
  • 特開昭63-274043
  • 特開平1-146236
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審査官引用 (5件)
  • 特公昭52-035709
  • 特公昭52-035709
  • 特公昭61-008770
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