特許
J-GLOBAL ID：200903093780154172
ホトレジスト膜のベーキング方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-172174
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135154
出願日： 1993年06月18日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 ホトレジスト膜を良好に乾燥することができるベーキング処理技術を提供する。【構成】 ベーキング処理工程において、ホトレジスト膜5が塗布されているウエハ4の裏面を加熱するホットプレートヒータ3がウエハ4の搬送ラインに沿って4つ設備されており、その4番目のホットプレートヒータ3の上方位置にホトレジスト膜5の表面を加熱する遠赤外線ヒータ6が設備されている。【効果】 ホトレジスト膜5中の溶剤はホットプレートヒータ3によるウエハ裏面の加熱によるベーキング処理によって蒸散され、さらにベーキング処理工程の終期に遠赤外線ヒータ6によって加熱されるため、ホトレジスト膜5の表面が充分に乾燥される。その結果、密着露光工程において、ホトマスクとウエハ4のホトレジスト膜5とが密着されても、ステッキングが発生するのが抑えられる。
請求項（抜粋）：
ホトレジスト膜が塗布された被処理物を裏面側から加熱して行うベーキング処理工程の終期または工程終了後に、前記ホトレジスト膜の表面を乾燥することを特徴とするホトレジスト膜のベーキング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16
, G03F 7/26
