特許
J-GLOBAL ID：200903093782343622
電子ビーム描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-282633
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121301
出願日： 1991年10月29日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】 電子ビーム描画方法において、スループットを低下することなく、先頭位置のパターン精度を向上する。【構成】 少なくとも、本体A,電子ビーム照射順序制御部B,電子ビームサイズ制御部Cおよび電子ビームショット制御部Dを備えた電子ビーム描画装置により矩形電子ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法において、隣合う位置を連続して描画しないように電子ビーム照射順序1,2,3,4......を設定して描画する。
請求項（抜粋）：
少なくとも、本体,電子ビーム照射順序制御部,電子ビームサイズ制御部および電子ビームショット制御部を備えた電子ビーム描画装置により、矩形電子ビームを照射して電子ビーム描画を行う方法において、隣合う位置を連続して描画しないように電子ビーム照射順序を設定して描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 341 J
, H01L 21/30 341 D
, H01L 21/30 341 E
