特許
J-GLOBAL ID：200903093785069513
不純物濃度分析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-335600
公開番号（公開出願番号）：特開平10-173020
出願日： 1996年12月16日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 被分析試料中の特定領域における不純物濃度を深さ精度良くSIMS測定する方法を提供する。【解決手段】 被分析試料中にイオン注入されたマーカー元素のSIMS測定を行うことにより、分析対象となる特定領域の試料裏面からの深さ及び試料裏面の平行度を精密に制御する。
請求項（抜粋）：
被分析試料中にマーカー元素をイオン注入する第1の工程と、被分析試料表面から2次イオン質量分析を行うことにより前記マーカー元素の深さ方向の濃度分布を求める第2の工程と、分析対象となる層とこれに隣接する層との界面の試料表面からの深さを測定する第3の工程と、前記界面におけるマーカー元素の濃度を求める第4の工程と、被分析試料裏面を研磨またはエッチングする第5の工程と、前記被分析試料裏面から2次イオン質量分析を行うことにより前記マーカー元素の深さ方向の濃度分布を求める第6の工程と、第4の工程で得られた前記界面におけるマーカー元素の濃度と第6の工程で得られたマーカー元素の深さ方向の濃度分布とから前記界面の前記被分析試料裏面からの深さを求める第7の工程と、第7の工程で得られた前記界面の前記被分析試料裏面からの深さが所定の値以下になるまで、第5の工程から第7の工程までを繰り返す第8の工程と、第8の工程で得られた前記被分析試料裏面から2次イオン質量分析を行うことにより不純物濃度を定量分析する第9の工程と、を含むことを特徴とする不純物濃度分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 N
, G01N 23/225
