特許
J-GLOBAL ID：200903093787746458
エッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-290192
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140380
出願日： 1992年10月28日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 ウェハ-を均一にエッチングすること。【構成】 エッチング溶液としての燐酸溶液を収容する処理槽1と、溶液を加熱するヒ-タ4と、溶液中に水蒸気を供給する水蒸気供給装置7とを具備したもの。更に、水蒸気の供給と同時に窒素やアルゴン等の不活性ガスを供給する。更に、水蒸気の噴出口11を処理槽1内の下部へ配する。更に、水蒸気を連続的に供給する。
請求項（抜粋）：
エッチング溶液を収容する処理槽と、前記エッチング溶液を加熱する加熱手段と、前記エッチング溶液中に水蒸気を供給する水蒸気供給手段とを具備したことを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
