TiO2を含有するシリカガラスの製造方法およびTiO2を含有するシリカガラスを用いたEUVリソグラフィ用光学部材

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-016880
公開番号（公開出願番号）：特開2006-210404
出願日： 2005年01月25日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】従来のTiO2-SiO2ガラスはガラス中に水素分子を多く含むため、超高真空下での成膜中に水素分子がチャンバー内に拡散し、膜中にH2分子が取り込まれる。水素分子は容易に拡散するため、多層膜の光学特性が変化する可能性がある。【解決手段】EUVリソグラフィ用光学部材において、TiO2濃度が3〜12質量%であって、ガラス中の水素分子含有量が5×1017分子/cm3未満であるTiO2を含有するシリカガラスの上に多層膜をイオンビームスパッタにより成膜する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

TiO2濃度が3〜12質量%、水素分子含有量が5×1017分子/cm3未満であるシリカガラスの上に、多層膜がイオンビームスパッタにより成膜されていることを特徴とするEUVリソグラフィ用光学部材。

IPC (8件)：

H01L 21/027 , C03B 8/04 , C03B 20/00 , C03C 3/06 , C03C 3/076 , G02B 5/08 , G03F 7/20 , G21K 1/06

FI (11件)：

H01L21/30 531A , C03B8/04 L , C03B8/04 P , C03B20/00 E , C03B20/00 F , C03C3/06 , C03C3/076 , G02B5/08 A , G03F7/20 503 , G21K1/06 C , G21K1/06 D

Fターム (71件)：

2H042DA08 , 2H042DA12 , 2H042DB02 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 2H097BA10 , 2H097CA15 , 4G014AH15 , 4G014AH21 , 4G062AA04 , 4G062BB01 , 4G062BB02 , 4G062CC07 , 4G062DA07 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FB03 , 4G062FB04 , 4G062FC01 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062NN01 , 4G062NN29 , 5F046CB03 , 5F046GB01

引用特許：

出願人引用 (9件)

米国特許出願公開第2002/157421号明細書
TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-076312 出願人：旭硝子株式会社
特開昭63-307140

全件表示

前のページに戻る