特許
J-GLOBAL ID：200903093822266626
無機多孔質材料の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2002003784
公開番号（公開出願番号）：WO2002-085785
出願日： 2002年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
シリカ源としての水ガラス、水溶性高分子および酸を含有する水性媒体溶液を調製し、その溶液から相分離とゲル化を同時に起して湿潤状態のゲルを作製し、該ゲルを洗浄した後、乾燥することを特徴とする無機多孔質材料の製造法。本発明によれば、シリカ源として入手容易な水ガラスを使用することにより微細な細孔を有する相互連続貫通孔を有する多孔質シリカを製造することが可能となった。また本発明によれば、細孔径を所望の大きさに制御することも可能となった。
請求項（抜粋）：
シリカ源として水ガラスを含む水溶液中で相分離とゲル化とを同時に起して湿潤状態のゲルを作製し、次いで該ゲルを洗浄した後乾燥することを特徴とする無機多孔質材料の製造法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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