特許

J-GLOBAL ID：200903093826775991

予測方法、評価方法、調整方法、露光方法、デバイス製造方法、並びにプログラム

発明者： 工藤 威人
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-043678
公開番号（公開出願番号）：特開2004-253673
出願日： 2003年02月21日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】投影光学系を介したパターンの転写特性を短時間に予測する。【解決手段】デフォーカス量に応じたパターンの転写像の結像状態の変化を、投影光学系の波面収差の変化によるものとみなし、ステップ108において、デフォーカス量に応じた波面収差の変化量に基づいて各フォーカス依存収差成分(Z4、Z9、Z16、Z25、Z36)を補正し、ステップ112において、補正されたフォーカス依存収差成分(Z4、Z9、Z16、Z25、Z36)を含む収差成分(Z1〜Z37)の線形結合の値を計算し、そのパターンの像の線幅の変化ΔCDを予測する。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

投影光学系を介したパターンの転写特性を予測する予測方法であって、 前記投影光学系の波面収差を展開して得られる複数の収差成分のうち、所定露光条件下で前記投影光学系を介して投影される所定パターンの像に関する、最良フォーカス位置からのデフォーカス量に依存して変動する複数のフォーカス依存収差成分を、前記デフォーカス量に応じた前記波面収差の変化量に基づいて補正する第1工程と; 前記補正されたフォーカス依存収差成分を含む前記複数の収差成分の線形結合の値に基づいて、前記像のサイズと前記デフォーカス量との対応関係を予測する第2工程と;を含む予測方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046BA03 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05