特許
J-GLOBAL ID：200903093831714755
汚染抑制層を有する基板支持チャック及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-109054
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064986
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】ワークピースの支持チャックの支持面上に堆積された汚染抑制層を有するワークピースの支持チャックとその製造方法を提供する。【解決手段】この抑制層100はアモルファス材料から作られる。この材料は、ボロケイ酸塩、フルオロケイ酸塩、ドープされたセラミックス、導電性酸化物膜、ダイアモンドの膜等を含む。抑制層100は、化学気相堆積(CVD)、プラズマ増強CVD、スパッタリング、フレームスプレー等を含むいろいろな材料の堆積技術の1つを用いて、チャック104の支持面に形成される。
請求項（抜粋）：
ワークピースの支持チャックの支持面上に堆積された、支持表面と離間した関係でワークピースを支持するための汚染抑制層を有するワークピースを支持する装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 R
, B23Q 3/15 D
