特許
J-GLOBAL ID：200903093833223597
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-244374
公開番号（公開出願番号）：特開平7-097682
出願日： 1993年09月30日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】 高性能な薄膜を効率良く成膜できる装置を提供することである。【構成】 真空槽と、この真空槽内に配置された蒸発源と、この蒸発源から蒸発した蒸発粒子が堆積する支持体と、この支持体を案内する案内手段と、前記案内手段で案内される支持体と蒸発源との間に蒸発粒子の飛散を防止する飛散防止筒を配設した成膜装置。
請求項（抜粋）：
真空槽と、この真空槽内に配置された蒸発源と、この蒸発源から蒸発した蒸発粒子が堆積する支持体と、この支持体を案内する案内手段と、前記案内手段で案内される支持体と蒸発源との間に蒸発粒子の飛散を防止する飛散防止筒を配設したことを特徴とする成膜装置。
IPC (4件)：
C23C 14/24
, G11B 5/85
, H01J 37/30
, H01J 41/20
