特許

J-GLOBAL ID：200903093852554960

改良されたエアロゾル洗浄装置

発明者： クリス・ヴェンカトラーマン・スリークリシュナン ,  ジン・ジュワン・ウー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-120948
公開番号（公開出願番号）：特開平7-008928
出願日： 1994年06月02日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：

【要約】【目的】 基板からエアロゾル・ジェットで浮遊汚染粒子を除去すること。【構成】 基板を洗浄するためのエアロゾル洗浄装置は、ノズル・ヘッドを有するエアロゾル作成手段を含む。このノズル・ヘッドを、回転可能ホルダによって保持される基板に対して、選択された近さと向きに位置決めする。エアロゾル・スプレーが基板から粒子を移動させ、さらに、基板の回転がゆるんだ粒子の除去を助ける。エアロゾル洗浄方法は、事前に選択された速度で基板を回転するステップと、基板からの粒子の除去を助けるために回転とあいまってエアロゾル・ジェットをスプレーするステップを含む。

請求項（抜粋）：

基板に近接して所定の距離に、洗浄される基板の表面に対して所定の角度方位に配置されるように適合された、表面から粒子を除去するために基板上の前記粒子にエアロゾルをスプレーするためのノズル・ヘッドを含む、エアロゾル作成手段と、基板の回転によって前記除去された粒子が基板から取り除かれるように、前記エアロゾル作成手段によってスプレーされるエアロゾルと協調して基板を保持し回転させるための回転可能ホルダとを具備する、基板を洗浄するためのエアロゾル・スプレー装置。

IPC (2件)：

B08B 5/02 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-130921
  
• 特開平2-251288
  
• 特開昭62-232929