露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-333872
公開番号（公開出願番号）：特開平7-192990
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】高い重ね合わせ精度が要求される半導体露光装置に関し、装置使用時の環境変化により生じる倍率変動とフォーカス位置変動を常に補正し一定に保つことで、高い重ね合わせ精度を得ることを目的とする。【構成】露光光源であるレーザ1の発振波長を変化させ、投影レンズ6内の圧力を大気圧に対して僅かに差を設ける制御手段5、13を用いることで、投影レンズ6の環境変化で生じる倍率変動とフォーカス変動を補正する。

請求項（抜粋）：

露光光源である発振波長が可変なレーザ光源と、前記レーザ光源の発振波長を所望の波長に設定する波長制御手段と、前記レーザ光源によりマスクパターンを有するマスクを照明する照明光学系と、前記マスクパターンをウェハ上に結像する投影光学系と、前記投影レンズ内の圧力を所望な圧力に設定する圧力制御手段と、前記投影光学系内外の圧力および/または温度を検出する検出手段と、前記検出手段から得られた結果に基づいて前記投影光学系内の圧力および前記レーザ光源の発振波長の必要変化量を算出する演算手段とを有し、前記必要変化量に応じて前記波長制御手段が前記レーザ光源の発振波長を所望な波長に設定し、前記圧力制御手段が前記投影レンズ内の圧力を所望な圧力に設定する露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02B 27/18 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-030412
特開昭60-079357
特開平4-030412

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