特許

J-GLOBAL ID：200903093869203142

露光方法及び露光装置

発明者： 白数 廣
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-112383
公開番号（公開出願番号）：特開2001-297969
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 感光剤が塗布された基板の周辺部の露光処理を簡易な構成で効率良く安定して行うことができる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 露光装置Eは、露光光束ELを出射する光源1と、光源1からの露光光束ELを反射する球面鏡4と、球面鏡4からの露光光束ELを基板Pの周辺部Aの所定の位置に照射するよう、基板Pに対して球面鏡4を移動する移動装置Hとを備えている。したがって、基板Pの周辺部Aの所定の位置に対する露光光束ELの照射は、簡易な構成で効率良く行うことができる。

請求項（抜粋）：

感光剤が塗布された基板の感光剤不要部を露光する露光方法において、前記基板に対する露光光束の相対的位置を調整して、前記感光剤不要部の所定の位置に前記露光光束を照射することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 577

Fターム (4件)：

5F046AA28 ,  5F046CB03 ,  5F046CB05 ,  5F046MA04