特許
J-GLOBAL ID:200903093889526797

脱水されたガラスと製造方法および用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-355031
公開番号(公開出願番号):特開平5-097466
出願日: 1991年12月20日
公開日(公表日): 1993年04月20日
要約:
【要約】【構成】重量%でシリカ90%以上、アルミニウム1ppm以下、水分100pp以下、塩素100ppm以下、徐冷点1150°C以上の脱水されたガラス。シリカ90%以上のガラスをマイクロ波誘電加熱により脱水処理するか、または多孔質ガラスを同加熱により脱水処理し次いで焼結させる方法。用途:ポリシリコンTFT方式LCD用基板、フォトマスク用ガラス基板。【効果】耐熱性が優れ、不純物が極めて少いシリカ主成分のガラス。
請求項(抜粋):
含有量が重量表示でシリカ90%以上、アルミニウム1ppm 以下、水分100ppm以下、塩素 100ppm 以下であり、徐冷点が1150°C以上であることを特徴とする脱水されたガラス。
IPC (6件):
C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  C03B 37/014 ,  F26B 3/347 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 1/14

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