特許

J-GLOBAL ID：200903093889632120

位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 法隆 榮
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-181696
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003854
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】 マスクとウエハとの相対的位置決めを高精度に行うことのできる位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 第1物体面上と第2物体面上に各々物理光学素子を設け、これらの物理光学素子に入射させた光束の所定面上に生ずる所定次数の回折光束の位置情報を検出手段で検出することにより該第1物体と第2物体との相対的な位置検出を行う際、該所定次数の回折光束の該所定面上に入射する位置関係より該第1物体と第2物体との位置ずれ方向を求めていること。

請求項（抜粋）：

第1物体面上と第2物体面上に各々物理光学素子を設け、これらの物理光学素子に入射させた光束の所定面上に生ずる所定次数の回折光束の位置情報を検出手段で検出することにより該第1物体と第2物体との相対的な位置検出を行う際、該所定次数の回折光束の該所定面上に入射する位置関係より該第1物体と第2物体との位置ずれ方向を求めていることを特徴とする位置検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 522 D ,  G01B 11/00 G ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 E

Fターム (24件)：

2F065AA22 ,  2F065AA31 ,  2F065BB02 ,  2F065BB24 ,  2F065CC17 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065FF48 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065LL42 ,  2F065LL43 ,  2F065LL44 ,  5F046DA08 ,  5F046DB08 ,  5F046EA07 ,  5F046EA08 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EC03 ,  5F046ED01 ,  5F046FA11 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05