特許

J-GLOBAL ID：200903093895589237

凹凸膜作製方法,光学素子並びに光起電力素子及びその製造方法

発明者： 亀田 正明 ,  白玖 久雄 ,  橋本 治寿
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-199003
公開番号（公開出願番号）：特開平11-046005
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】 光の散乱効果を呈するために有効な凹凸形状を、簡易かつ低コストにて形成でき、しかもその凹凸形状の制御性が良い凹凸膜作製方法を提供する。【解決手段】 準備したガラス基板1(a)上に、内部に多数の気泡2を含む液体(シリカ溶液)を塗布して液状膜3を形成する(b)。液体膜3を塗布されたガラス基板1を焼成すると、液状膜3に含まれていた気泡2が弾けて外部に放散され、表面に凹凸形状を有するSiO2 膜4を作製できる(c)。液体に含まれる気泡の大きさ,濃度及び分布状態を調整することにより、所望の形状をなす凹凸パターンを作製する。このような凹凸膜作製手法を、光起電力素子の製造工程に適用する。

請求項（抜粋）：

表面に凹凸形状を有する膜を基板上に作製する方法において、内部に気泡を含ませた前記膜の材料の液体を前記基板に付着させ、付着した前記液体を加熱することを特徴とする凹凸膜作製方法。