特許
J-GLOBAL ID:200903093896669528
含フッ素共重合体の製造法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 俊夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-364674
公開番号(公開出願番号):特開2003-165802
出願日: 2001年11月29日
公開日(公表日): 2003年06月10日
要約:
【要約】【課題】 光透過性および高温での長時間使用時の着色変化の程度を示す耐熱黄変性にすぐれた含フッ素共重合体の製造法を提供する。【解決手段】 少くとも2種類の含フッ素単量体をラジカル共重合反応させるに際し、ハロゲン化フルオロアルキル化合物およびこれにラジカルを移動させることのできる重合開始剤を水性媒体中で40〜100°Cに加熱した後、含フッ素単量体を反応系内に仕込み、共重合反応させて含フッ素共重合体を製造する。この含フッ素共重合体は、耐熱黄変性にすぐれているため着色が極めて小さく、さらに光透過性にもすぐれているため、半導体分野、電気電子分野などの各種部材の成形材料として好適に使用される。
請求項(抜粋):
少くとも2種類の含フッ素単量体をラジカル共重合反応させるに際し、ハロゲン化フルオロアルキル化合物およびこれにラジカルを移動させることのできる重合開始剤を水性媒体中で40〜100°Cに加熱した後、含フッ素単量体を反応系内に仕込み、共重合反応させることを特徴とする含フッ素共重合体の製造法。
IPC (5件):
C08F 2/10
, C08F214/16
, C08F214/18
, C08J 5/00 CEW
, C08L 27:12
FI (5件):
C08F 2/10
, C08F214/16
, C08F214/18
, C08J 5/00 CEW
, C08L 27:12
Fターム (45件):
4F071AA26
, 4F071AA27
, 4F071AF30
, 4F071AF34Y
, 4F071AH03
, 4F071AH07
, 4F071AH12
, 4F071AH17
, 4F071BB03
, 4F071BB05
, 4F071BB06
, 4F071BC01
, 4F071BC03
, 4F071BC04
, 4F071BC05
, 4J011AA05
, 4J011KA03
, 4J011NA33
, 4J011NA34
, 4J011NB06
, 4J100AC23P
, 4J100AC23Q
, 4J100AC24P
, 4J100AC24Q
, 4J100AC25P
, 4J100AC25Q
, 4J100AC26P
, 4J100AC26Q
, 4J100AC27P
, 4J100AC27Q
, 4J100AC31P
, 4J100AC31Q
, 4J100AC37R
, 4J100AE39P
, 4J100AE39Q
, 4J100CA05
, 4J100DA09
, 4J100DA24
, 4J100DA25
, 4J100DA61
, 4J100DA62
, 4J100JA01
, 4J100JA15
, 4J100JA43
, 4J100JA59
引用特許:
前のページに戻る