特許
J-GLOBAL ID:200903093898330480

積層集積導波路デバイス及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-130750
公開番号(公開出願番号):特開2001-013335
出願日: 1999年05月12日
公開日(公表日): 2001年01月19日
要約:
【要約】【課題】高集積度で高寸法精度の光集積回路を実現できる積層集積導波路デバイス及びその製造方法を提供する。【解決手段】種々の特性、機能を有する導波路層を多層状に積層することができるので、小さい基板面積で高集積度の光デバイスを実現することが可能となる。フォトブリーチング材からなるコア層3-1、3-2及びそのコア層3-1、3-2の両側面のクラッド層4a-1、4b-1、4a-2、4b-2の上面を平坦にすることができ、そのクラッド層4a-1、4b-1、4a-2、4b-2上の上部クラッド層5-1、5-2も平坦に形成することができることと、各導波路層間はUV光カット層6-1でUV光が透過しないように断絶されているのでフォトブリーチング材からなる導波路層7-1、7-2を多層状に積層することができる。
請求項(抜粋):
基板と、該基板上に形成された高屈折率のフォトブリーチング材からなるコア層と、該コア層の両側で上記フォトブリーチング材がフォトブリーチングされた低屈折率の側面クラッド層と、上記コア層及び上記側面クラッド層の上に形成された低屈折率の上部クラッド層と、該上部クラッド層上に形成されたUV光カット層あるいはUV光吸収層とで構成された導波路層とを備えた導波路デバイスであって、上記導波路層の上に上記導波路層と同様の構成を有する導波路層が少なくとも一層積層されていることを特徴とする積層集積導波路デバイス。
IPC (2件):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2件):
G02B 6/12 F ,  G02B 6/12 M
Fターム (10件):
2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047LA11 ,  2H047LA12 ,  2H047MA05 ,  2H047PA17 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA05

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