特許
J-GLOBAL ID：200903093900963940
塗布方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122611
公開番号（公開出願番号）：特開平5-293421
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】 塗布液のスジムラや段ムラのない均一な薄層塗膜を高速で形成する塗布方法及び装置を提供する。【構成】 支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置し、その先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退している一つ以上のバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドによる塗布方法及び装置である。支持体1の塗布面にあらかじめ塗布された有機溶剤を主体とする液体によって液封された状態とし、有機溶剤を主体とする液体6に隣接する磁性塗布液8のエクストルージョン型ヘッドの先端部での引き伸ばし係数を200以下とする塗布方法及びこの方法を実施した特定のスリット幅を有した塗布装置。
請求項（抜粋）：
支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、該支持体移動方向に対して下流側に位置し、その先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退している一つ以上のバックエッジとを有するエクストルージョン型塗布ヘッドにより、一つ以上の塗布液を塗布する塗布方法において、前記支持体の塗布面にあらかじめ塗布された有機溶剤を主体とする液体によって液封された状態で、前記有機溶剤を主体とする液体に隣接する磁性塗布液のエクストルージョン型ヘッドの先端部での引き伸ばし係数を200以下とすることを特徴とする塗布方法。
IPC (5件)：
B05C 5/02
, B05D 1/26
, B05D 5/12
, B05D 7/24 303
, G11B 5/842
