特許
J-GLOBAL ID:200903093901963537

貴金属ゾル及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-304163
公開番号(公開出願番号):特開2001-032092
出願日: 1999年10月26日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】 パラジウムをベースとする公知のコロイド系と同様に、しかしながらジグフレーム材料を同時にメタライジングせずに、非導電性基材を差し替えなしに芽晶形成しかつメタライジングすることができる廉価な貴金属を有するコロイド系を提供すること【解決手段】 後続する外部電流なしのメタライジングもしくは電気メッキによるメタライジングの前に非導電性基材を前処理するための、微細粒の貴金属芽晶を設置するためのコロイド状メタンスルホン酸性貴金属ゾル
請求項(抜粋):
後続する外部電流なしのメタライジングもしくは電気メッキによるメタライジングの前に非導電性基材を前処理するための、微細粒の貴金属芽晶を設置するためのコロイド状メタンスルホン酸性貴金属ゾル。
IPC (3件):
C25C 1/20 ,  C23C 18/18 ,  C25D 5/54
FI (3件):
C25C 1/20 ,  C23C 18/18 ,  C25D 5/54
Fターム (13件):
4K022AA03 ,  4K022AA04 ,  4K022CA06 ,  4K022CA13 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  4K024AB17 ,  4K024BA12 ,  4K024BA15 ,  4K024BB11 ,  4K024DA06 ,  4K024DA10

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