特許

J-GLOBAL ID：200903093909891136

フォトレジスト用グラフトポリマー及び化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者： 有田 靖
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-073857
公開番号（公開出願番号）：特開2003-268057
出願日： 2002年03月18日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマ光に適した化学増幅型フォトレジスト用ポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 耐ドライエッチング性に優れるモノマーと、光反応により発生した酸の作用により脱保護する保護基を持つモノマーとを、共重合させてなることを特徴とするフォトレジスト用グラフトポリマーであり、好ましくは下記の(ア)及び/又は(イ)からなるものである。(ア)幹ポリマー部が、耐ドライエッチング性に優れるモノマー成分を重合してなり、グラフト部が、光反応により発生した酸の作用により脱保護する保護基を持つモノマー成分を重合してなるグラフトポリマー。(イ)幹ポリマー部が、光反応により発生した酸の作用により脱保護する保護基を持つモノマー成分を重合してなり、グラフト部が、耐ドライエッチング性に優れるモノマー成分を重合してなるグラフトポリマー。

請求項（抜粋）：

耐ドライエッチング性に優れるモノマーと、光反応により発生した酸の作用により脱保護する保護基を持つモノマーとを、共重合させてなることを特徴とするフォトレジスト用グラフトポリマー。

IPC (3件)：

C08F291/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08F291/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J026AA11 ,  4J026AA45 ,  4J026AA54 ,  4J026BA01 ,  4J026BA27 ,  4J026BA35 ,  4J026GA01