特許
J-GLOBAL ID：200903093915574118
基板の精密洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-166503
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349802
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 有機物系汚染物であると無機物系汚染物であるとを問わず短時間に除去することができ、IPA蒸気乾燥法に必要とされるような安全設備が不要で小型の精密清浄装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の基板の精密洗浄装置は、清浄空気雰囲気中で基板14の表面に紫外線を照射して該表面の異物を除去するための紫外線照射手段11と、基板の表面に氷粒子またはドライアイス粒子を噴射して該表面の異物を除去するためのアイススクラブ手段12とを備え、前記紫外線照射手段と前記アイススクラブ手段は同時に作動することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
清浄空気雰囲気中で基板の表面に紫外線を照射して該表面の異物を除去するための紫外線照射手段と、前記基板の表面に氷粒子またはドライアイス粒子を噴射して前記表面の異物を除去するためのアイススクラブ手段とを備え、前記紫外線照射手段と前記アイススクラブ手段は同一の基板に対して同時に作動することを特徴とする基板の精密洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 7/04
, G03F 1/08
