特許
J-GLOBAL ID：200903093917974032
スパッタリング用ターゲットおよびその再利用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-318471
公開番号（公開出願番号）：特開平8-176809
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：
【要約】【目的】マグネトロンスパッタリング用ターゲットにおいて、ターゲットの使用効率を大幅に向上し、成膜にかかる材料コストを下げる。【構成】ターゲット材2の、スパッタリングにより著しく消耗された領域と、消耗の少ないまたは消耗されていない領域とを交換し、再配置することによりターゲット材を再利用する。
請求項（抜粋）：
プレーナー型マグネトロンスパッタリング用ターゲットにおいて、そのターゲット材が、スパッタリングにより著しく消耗された領域と、消耗の少ないまたは消耗されていない領域とを交換し、再配置して形成されていることを特徴とするスパッタリング用ターゲット。
IPC (2件)：
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