特許
J-GLOBAL ID：200903093921187002

光導波路基板

発明者：
金子 勝弘

金子 勝弘 について

, 
仲井 剛

仲井 剛 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-425478
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181871
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】 耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等の信頼性に優れた、シロキサンポリマから成る光導波路が形成された光導波路基板を得る。 【解決手段】 基板1上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、酸溶液に浸漬することによって残留したシラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことによって形成したシロキサンポリマ皮膜から成る光導波路6が形成され、この光導波路6の表面に酸化物,窒化物または酸窒化物から成る保護層5を形成した光導波路基板である。耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等の信頼性に優れた、シロキサンポリマから成る光導波路6が形成された光導波路基板を得ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、前記シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、前記シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによって前記シロキサンポリマ皮膜中に残留した前記シラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことにより形成したシロキサンポリマ皮膜から成る光導波路が形成され、該光導波路の表面が酸化物,窒化物または酸窒化物から成る保護層で被覆されていることを特徴とする光導波路基板。
IPC (4件)：
G02B6/12 ,  C08J7/04 ,  C08J7/06 ,  C09D183/04
FI (4件)：
G02B6/12 N ,  C08J7/04 Z ,  C08J7/06 Z ,  C09D183/04
Fターム (20件)：
2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  4F006AA39 ,  4F006AA42 ,  4F006AB39 ,  4F006AB72 ,  4F006AB74 ,  4F006AB76 ,  4F006BA00 ,  4F006BA02 ,  4F006CA05 ,  4F006DA01 ,  4F006DA04 ,  4J038DL031 ,  4J038KA06 ,  4J038MA04 ,  4J038NA17 ,  4J038NA19 ,  4J038PB03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (14件)
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