特許

J-GLOBAL ID：200903093927029794

X線マスク、該X線マスクを用いたX線露光装置、前記X線マスクを用いた半導体デバイスの製造方法、及び前記X線マスクを用いて製造した半導体デバイス

発明者： 塚本 雅美 ,  渡辺 豊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-133516
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320935
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 搬送や露光等の取り扱い時に損傷することなく、マスクパターンへの異物の付着を防止できる保護手段を備えたX線マスクを提供する。【解決手段】 X線によって所望の回路パターンをウエハ上に転写するX線露光に用いられるX線マスクにおいて、X線マスクに、少なくともX線マスク上に形成されたマスクパターンを覆い、露光光路を妨げる部位がX線マスクから取外し可能なマスクパターン保護部材を有する構成とする。

請求項（抜粋）：

X線によって所望の回路パターンをウェハ上に転写するX線露光に用いられるX線マスクにおいて、少なくとも前記X線マスク上に形成されたマスクパターンを覆い、露光光路を妨げる部位が前記X線マスクから取外し可能なマスクパターン保護部材を有することを特徴とするX線マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02

FI (5件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A