特許
J-GLOBAL ID：200903093930121049
走査型露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-160063
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330219
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】 照明光束の光軸の傾き調整誤差や、平坦度に急峻な変化が生じた場合にも、高スループットのままマスクのパターンを感光基板上に良好に露光する。【構成】 制御系12では、マスク3と感光基板4が投影光学系2の投影領域を通過して露光開始位置に搬送される際に、フォーカスセンサ(8A、8B)の出力をモニタしつつ所定のアライメントポイントで駆動系14を制御してフォーカス調整を行なった後、アライメントセンサ7を用いてマスク3と感光基板4のアライメントマーク位置を計測する。マスク3と感光基板4が露光開始位置に搬送されると、露光開始前に、制御系12では、少なくとも記憶装置11に記憶された所定のアライメントポイントにおけるアライメントセンサの検出情報に基づいて駆動系13を制御してマスク3と感光基板4とのアライメントを行なう。
請求項（抜粋）：
マスクと感光基板を所定の走査方向に同期して移動しつつ前記マスク上のパターンを投影光学系を介して前記感光基板上に逐次転写する走査型露光装置であって、前記マスクと前記感光基板との前記投影光学系の光軸に直交する2次元方向の相対的な位置関係を検出する第1の位置検出手段と;前記マスクと感光基板との前記光軸方向の相対的な位置関係を検出する第2の位置検出手段と;前記第1の位置検出手段で検出された前記マスクと前記感光基板との前記光軸に直交する2次元方向の相対的な位置関係の情報である第1の位置情報と、前記第2の位置検出手段で検出された前記マスクと感光基板との前記光軸方向の相対的な位置関係の情報である第2の位置情報とが記憶される記憶手段と;前記マスクと前記感光基板との前記光軸に直交する2次元方向の相対的な位置関係を調整する第1の調整手段と;前記マスクと前記感光基板との前記光軸方向に対する相対的な位置関係を調整する第2の調整手段と;前記マスクと前記感光基板が前記投影光学系の投影領域を通過して露光開始位置に搬送される際に、前記第2の位置検出手段の出力をモニタしつつ所定のアライメントポイントで前記第2の調整手段を制御して前記マスクと前記感光基板との前記光軸方向に対する相対的な位置関係を調整した後、前記第1の検出手段を介して前記マスクと前記感光基板との前記光軸に直交する2次元方向の相対的な位置関係を検出する第1の制御手段と;前記マスクと前記感光基板を露光開始位置に搬送後、露光開始前に、少なくとも前記記憶手段に記憶された所定のアライメントポイントにおける前記第1の位置情報に基づいて前記第1の調整手段を制御して前記マスクと前記感光基板との前記光軸に直交する2次元方向の相対的な位置を調整する第2の制御手段とを有する走査型露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 518
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 526 B
