特許
J-GLOBAL ID：200903093932649539
三次元計測方法および表示方法、ならびに三次元計測装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-267201
公開番号（公開出願番号）：特開平9-113236
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 試料の表面形状を正確に計測することができる三次元計測方法および装置を提供する。【解決手段】 試料が高さ方向に移動しながら、高さ方向において互いに異なる複数の高さ位置で共焦点画像Fj(ただし、j=1,2,...,n)がそれぞれ撮像される。これらの共焦点画像Fjに基づき、画素(x,y)ごとに高さ方向において光量が最大となる表面高さデータH(x,y)が求められ、さらに当該表面高さデータH(x,y)での最大光量I(x,y)が求められる。そして、各画素ごとに、当該ノイズ処理対象画素(x,y)の周辺画素における表面高さデータH(a,b)および最大光量I(a,b)に基づきノイズ処理対象画素(x,y)の表面高さデータH(x,y)を補正する。
請求項（抜粋）：
試料の高さ方向において互いに異なる複数の高さ位置で複数の画素よりなる水平面の共焦点画像をそれぞれ撮像し、これら複数の共焦点画像に基づき前記試料の表面情報を求める三次元計測方法において、前記複数の共焦点画像に基づき、各画素ごとに前記高さ方向において光量が最大となる高さ位置を表面高さ位置として求める工程と、各画素ごとに、前記表面高さ位置での光量を最大光量として求める工程と、各画素ごとに、当該画素の周辺画素における表面高さ位置および最大光量に基づき当該画素に対応する表面高さ位置を補正して当該画素に対応する試料の表面情報とする工程と、を備えたことを特徴とする三次元計測方法。
IPC (4件)：
G01B 11/24
, G01B 11/02
, G02B 21/00
, G06T 7/00
G01B 11/24 C
, G01B 11/02 H
, G02B 21/00
, G06F 15/62 415
