特許

J-GLOBAL ID：200903093933919670

超微粒子およびその製造方法

発明者： 許 並社 ,  田中 俊一郎
出願人/特許権者： 新技術事業団 ,  許 並社 ,  田中 俊一郎
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-126642
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312261
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】 超微粒子の単体としての物性研究や応用開発等を容易にするために、超微粒子を単体として作製することを可能にすると共に、超微粒子の形成位置制御等を実現する。【解決手段】 基板1上に細孔4を有するターゲット材3を配置し、このターゲット材3の細孔内壁4aに対して高エネルギービーム5を斜め方向から照射して、ターゲット材の構成原子または構成分子を離脱させ、この離脱させた原子や分子を基板1に付着させることによって、基板1上のターゲット材3の細孔4に対応した位置に超微粒子6を形成する。得られる超微粒子6は、基板1上に分離した状態で、かつターゲット材3の細孔4に対応した位置に存在する。

請求項（抜粋）：

基板上に分離した状態で存在する超微粒子であって、前記超微粒子は前記基板上に配置された細孔を有するターゲット材への高エネルギービームの斜め照射により離脱した前記ターゲット材の構成原子または構成分子からなると共に、前記ターゲット材の細孔に対応した位置に形成されていることを特徴とする超微粒子。

IPC (4件)：

H01L 21/203 ,  B01J 19/12 ,  H01L 39/24 ZAA ,  B22F 9/02

FI (4件)：

H01L 21/203 S ,  B01J 19/12 H ,  H01L 39/24 ZAA C ,  B22F 9/02 Z