特許
J-GLOBAL ID：200903093954649524
ガスパルスプラズマ溶接方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-178428
公開番号（公開出願番号）：特開平8-039259
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ溶接の本来的な利点を生かし、キーホール形成及び深い溶け込みの溶接を溶融プールの溶け落ち等の不都合を生じることなく安定して行うことができるガスパルスプラズマ溶接方法を提供する。【構成】 プラズマガス流のガス流量を周期的にパルス状に変動させるガスプラズマ溶接方法である。前記プラズマガス流はピークガス流量の期間とベースガス流量の期間とが交互に連続するパルス状に変動し、ベースガス流量の期間はピークガス流量の期間の0.3乃至1倍であり、ベースガス流量はピークガス流量の0.3乃至0.7倍である。また、前記ピークガス流量期間と、前記ベースガス流量期間との間に、前記ピークガス流量と前記ベースガス流量との間の流量の1又は2以上の期間を有する。更に、プラズマアーク柱により溶接進行方向の後方に形成される溶融プールに溶加材ワイヤを供給することにより、水平固定管を全姿勢溶接するのに適している。
請求項（抜粋）：
プラズマガス流のガス流量を周期的にパルス状に変動させるガスプラズマ溶接方法であって、前記プラズマガス流はピークガス流量の期間とベースガス流量の期間とが交互に連続するパルス状に変動し、ベースガス流量の期間はピークガス流量の期間の0.3乃至1倍であり、ベースガス流量はピークガス流量の0.3乃至0.7倍であることを特徴とするガスパルスプラズマ溶接方法。
IPC (2件)：
B23K 10/02
, B23K 10/00 502
