特許

J-GLOBAL ID：200903093954794664

露光装置

発明者： 行 田 道 知 ,  今 井 洋 之
出願人/特許権者： 株式会社アドテックエンジニアリング
代理人 (1件)： 高橋 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-010027
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194507
出願日： 1998年01月05日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 位置合わせを精度よく、且つ簡単に行える露光装置を提供する。【解決手段】 フィルムマスク1及びプリント配線基板Wを所定の領域に区分し、該領域毎にフィルムマスク1とプリント配線基板Wとの位置合わせと露光を実行する。

請求項（抜粋）：

被露光基板を載置する基台装置と、該基台上の被露光基板に投影する所定のパターンを備え、前記基台装置の上部に位置するマスクと、前記マスクと前記基台の少なくとも一方を移動させ、両者の相対的な位置関係を変更設定する移動装置と、前記マスクの上に設置され、該マスクのパターンを基台装置上の被露光基板に投影させる光源装置と、前記露光基板とマスクを任意の領域に区分し、前記移動装置を制御して該領域毎に前記マスクと被露光基板との位置合わせを行う位置合わせ装置と、を備え;前記領域毎に位置合わせを行った後に露光を行う、ことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 9/00 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (4件)：

G03F 9/00 A ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 506 J ,  H01L 21/30 507 T

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-215025
  
• 特開昭58-215025