特許

J-GLOBAL ID：200903093964094016

高分子光学材料及びその製造方法及び高分子光導波路

発明者： 林田 尚一 ,  渡辺 俊夫 ,  今村 三郎
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308511
公開番号（公開出願番号）：特開平9-124793
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】 可視から近赤外域にわたって低損失であり、耐熱性に優れた高分子光学材料とその製造方法、及び当該材料を用いた耐溶剤性にも優れた高分子光導波路を提供する。【解決手段】 少なくともR-Si-O-〔RはCn Y2n+1(Y:H、重水素、ハロゲン、n:5以下の正の整数)又はC6 Y5 を示す〕、-Si-O1/2 、-Si-OH、-Si-OE(Eはエポキシ含有の有機基)結合をもつ繰返し単位の共重合体からなる光学材料。その相当するクロロシランのエポキシエーテル化と加水分解による製法。該材料の硬化物をコア、クラッド材料とする高分子光導波路。

請求項（抜粋）：

式(I)〜(IV)の各単位を構成分とする下記一般式(化1):【化1】〔式中、R1 、R2 、R3 は同一又は異なり、Cn Y2n+1(Yは水素あるいは重水素あるいはハロゲン、nは5以下の正の整数)で表されるアルキル基あるいは重水素化アルキル基あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはC6 Y5 (Yは水素あるいは重水素あるいはハロゲン)で表されるフェニル基あるいは重水素化フェニル基あるいはハロゲン化フェニル基であり、Eはエポキシ官能性の有機置換基である〕で表される繰返し単位からなる共重合体であることを特徴とする高分子光学材料。

IPC (5件)：

C08G 77/24 NUH ,  C08G 77/12 ,  C08G 77/14 NUG ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/12

FI (5件)：

C08G 77/24 NUH ,  C08G 77/12 ,  C08G 77/14 NUG ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/12 N