特許

J-GLOBAL ID：200903093978538413

透明導電膜形成用処理液およびその処理液を用いた透明導電膜の作製方法ならびに得られた透明導電膜

発明者： 武田 広充 ,  稲毛 裕子 ,  足立 健治
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-290403
公開番号（公開出願番号）：特開平8-127860
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】【目的】 低温焼成が可能で、陰極線管(CRT)の電界シールド用の高い導電性をもつ膜を形成できる透明導電膜の提供。【構成】 錫添加酸化インジウムとアンチモン添加酸化錫微粉末のうちの1種以上、三酸化レニウム微粉末、アルキルシリケート部分加水分解重合物を主成分とするシリケート系バインダー、および有機溶剤とから実質的に構成される透明導電膜形成用処理液を用い、100°C以上450°C以下の温度で焼成する。

請求項（抜粋）：

錫添加酸化インジウムとアンチモン添加酸化錫微粉末のうちの1種以上と三酸化レニウム微粉末および有機溶媒とから実質的に構成される透明導電膜形成用処理液。