特許
J-GLOBAL ID：200903093988848615
ガス回収循環装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-356146
公開番号（公開出願番号）：特開平6-327924
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 ラジカル反応を用いた加工装置を用いて被加工物を加工する際、この加工装置から排出される排出ガス中の反応性ガスとキャリアガスとを回収再利用し、高価なガスの消費を低減するためのガス回収循環装置の提供。【構成】 このガス回収循環装置12では、加工装置11から排出された排出ガスは、上記吸着槽17で反応生成物が分離除去され、脱水槽18で水分が除去され、脱酸素槽19で酸素が除去され、フィルタ21で浮遊性微粒子が除去され、これにより、未反応性ガスとキャリアガスのみよりなる回収ガスを、ガス吸引・昇圧駆動源20により供給槽15に送って反応性ガスとキャリアガスを不足分だけ補充して所定反応ガス濃度に調整し、その後再度加工装置11内に導入する。
請求項（抜粋）：
反応性ガスとキャリアガスとを含有する気体雰囲気中に配した被加工物近傍で、放電またはレーザ光励起により選択的に該反応性ガスを活性化せしめ、生じた化合物を気化させて該被加工物を切断加工する加工装置に接続され、該加工装置からの排出ガス中から上記反応ガスと上記キャリアガスを回収し、該加工装置に反応性ガスとキャリアガスを供給するガス供給系に返送するガス回収循環装置であって、上記加工装置の排気系と上記ガス供給系との間に設けられたガス循環管路と、該ガス循環管路に介在され、少なくとも該排出ガス中の反応生成物を吸着除去する吸着槽と、該排出ガス中の水分を除去する脱水槽と、該排出ガス中の酸素を除去する脱酸素槽と、該排出ガス中に浮遊する微粒子を除去するフィルタとを具備し、該排出ガス中から上記反応性ガス及び上記キャリアガス以外の不要成分を分離除去する排出ガス精製手段と、該加工装置からの排出ガスを該精製手段に導くとともに、該精製手段で精製された回収ガスを上記加工装置のガス供給系に返送するガス循環手段とを備えたことを特徴とするガス回収循環装置。
IPC (6件)：
B01D 53/04
, B01D 53/14
, B01D 53/34 134
, C23F 4/00
, B01D 53/36
, H01L 21/302
