特許

J-GLOBAL ID：200903094003791548

プラズマ処理方法

発明者： 野中 龍
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-191348
公開番号（公開出願番号）：特開平9-120988
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ処理方法において、静電チャックを劣化させずかつスループットを低下させずに、静電チャックへの被処理体の吸着不良を防止して、吸着力をより強くする。【解決手段】 静電チャック11にプラスの直流電圧を印加することによって生ずる静電気力を利用してウエハWを静電チャック11上に吸着し、処理室2内に処理ガスを供給しつつプラズマを発生させて、ウエハWに対してプラズマ処理を施す方法において、処理を施したウエハWを静電チャック11上から離した後、次のウエハWを静電チャック11上に吸着する前に、処理室2内に窒素ガスを導入した状態で、静電チャック11に対してマイナスの直流電圧を印加して直流放電させる。気体中の電荷が静電チャック11の表面に引き寄せられ、残留電荷が除去される。

請求項（抜粋）：

処理室内にある静電チャックに直流電圧を印加することによって生ずる静電気力を利用して被処理体を前記静電チャック上に吸着し、前記処理室内に所定の処理ガスを供給しつつ、高周波電力の供給によって前記処理室内にプラズマを発生させ、前記静電チャック上の被処理体に対し所定のプラズマ処理を施す方法において、前記所定のプラズマ処理が終了した後、前記処理ガスの供給と、高周波電力の供給を各々停止させ、プラズマ処理を施した被処理体を前記静電チャック上から離隔させた後、次の処理すべき被処理体を前記静電チャック上に吸着する前に、前記処理室内に気体を導入した状態で、前記被処理体を吸着する際に静電チャックに印加する直流電圧とは逆極性の直流電圧を、前記静電チャックに印加することを特徴とする、プラズマ処理方法。

IPC (10件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31

FI (11件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  C23C 14/34 J ,  C23C 14/50 A ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H02N 13/00 D ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 C ,  H01L 21/302 F