特許
J-GLOBAL ID：200903094010915287
マイクロ波プラズマ発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-074801
公開番号（公開出願番号）：特開平5-283195
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】 効率よくプラズマを生成させることができるマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。【構成】 放電容器21に設けられた永久磁石38,40のプラズマ閉じ込め手段35のマイクロ波導入口25の隣接部分に、導波管26の片端部27内の磁場の強さを減少させる高透磁率材料で形成された磁場調節部材37が配設され、マイクロ波導入口25が遮蔽されている。これによりマイクロ波導入口25及び導波管26の片端部27内の限られた範囲で磁場が弱いものとなって、放電容器21内にプラズマが生成される場合においても、放電容器21内と同じガス雰囲気である導波管26内ではプラズマが生成されない。このため放電容器21内へのマイクロ波の導入が妨げられることがなくなり、効率よくプラズマを生成させることができる。
請求項（抜粋）：
内部に所定のガスが導入されてプラズマが形成される放電容器と、この放電容器のマイクロ波導入口に片端部が取着された導波管と、前記放電容器内に磁場を形成してプラズマを閉じ込めるプラズマ閉じ込め手段とを備えたマイクロ波プラズマ発生装置において、前記プラズマ閉じ込め手段は、前記マイクロ波導入口の隣接部分に該プラズマ閉じ込め手段による前記導波管の片端部内の磁場の強さを減少させる磁場調節部が配設されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/302
