特許
J-GLOBAL ID：200903094013702918
集積回路製造用フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144397
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015853
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【構成】 露光装置の露光波長で解像されない長さの短辺9を有する補助パタ-ン3及び同様の短辺10を有する補助パタ-ン4が、回折光で露光解像し得る幅の分離幅30を介してそれぞれ主パタ-ン2の短辺5及び短辺6と対向する位置に配置されているマスクパタ-ン1が形成された集積回路製造用フォトマスク。【効果】 長辺と短辺の比が大きくとも(該比が2以上あっても)、マスクパタ-ン1を通過する露光光の適正化が図られ、長辺、短辺とも設計通りであるレジストパタ-ン15を形成することができる。
請求項（抜粋）：
矩形の主パタ-ンと、短辺が露光波長では解像しない長さを有し、長辺が前記主パタ-ンの短辺より大きい長さを有する矩形の補助パタ-ンとを備え、該補助パタ-ンが前記主パタ-ンに対して回折光で露光解像し得る幅の分離幅を介し、その長辺が前記主パタ-ンの各短辺と対向するように配置されていることを特徴とする集積回路製造用フォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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