特許

J-GLOBAL ID：200903094020166940

フォトマスクブランク、その製造方法及びフォトマスク

発明者： 金子 英雄 ,  稲月 判臣 ,  塚本 哲史 ,  茂木 均之
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-013162
公開番号（公開出願番号）：特開2004-226593
出願日： 2003年01月22日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【解決手段】透明基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクであって、膜による基板の反りが0.5μm以下であることを特徴とするフォトマスクブランク。【効果】本発明によれば、反りが小さく、酸やアルカリに対する耐薬品性が高い高品質なフォトマスクブランク及びフォトマスクが得られる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

透明基板上に少なくとも一層の膜を設けてなるフォトマスクブランクであって、膜による基板の反りが0.5μm以下であることを特徴とするフォトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P

Fターム (3件)：

2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-329132   出願人：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-243317   出願人：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-060925   出願人：ホーヤ株式会社
• 露光用マスクとその製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-304186   出願人：株式会社東芝