特許

J-GLOBAL ID：200903094025289080

新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤

発明者： 高橋 栄治 ,  村本 博雄
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社
代理人 (1件)： 東海 裕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-168567
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345726
出願日： 1993年06月15日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】新規スルホニウム塩化合物の重合開始剤を提供する。【構成】化1又は化2のスルホニウム塩化合物及びその重合開始剤。【化1】【化2】〔式中、R1 ,R4 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基または、アルコキシカルボニル基を表し、R2 ,R5 はアルキル基を表し、R3は、置換されていてもよいフェニル基またはナフチル基を表し、R6 は、アルケニル基、α-アルキルベンジル基、α,α-ジアルキルベンジル基、α-フェニルベンジル基、フルオレニル基を表し、XはSbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 を表す〕【効果】本発明の新規スルホニウム塩化合物は、カチオン重合性開始剤として有効であり、加熱処理又は光照射することにより、極めて迅速に重合、硬化させることができる。

請求項（抜粋）：

一般式化1又は化2で表されるスルホニウム塩化合物。【化1】〔式中、R1 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を表し、R2 はアルキル基を表し、R3 は置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいナフチル基を表し、Xは、SbF6,AsF6 ,PF6 又はBF4 を表す〕【化2】〔式中、R4 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基又はアルカノイル基を表し、R5 はアルキル基を表し、R6 は、アルケニル基、α-アルキルベンジル基、α,α-ジアルキルベンジル基、α-フェニルベンジル基又はフルオレニル基を表し、XはSbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 を表す〕

IPC (3件)：

C07C381/12 ,  C08F 4/00 MFJ ,  C08G 59/68 NKL

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 可視光感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-206088   出願人：東洋インキ製造株式会社
• 特開昭58-037003