特許
J-GLOBAL ID：200903094049891920
偏光UV露光システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 廣瀬 繁樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-515085
公開番号（公開出願番号）：特表2008-501997
出願日： 2005年04月20日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
露光システムを用いて異方吸収分子で形成された配向層(304)を露光して、後で塗布される液晶高分子(LCP)の配向を可能にする。配向層に入射する光は偏光される。単一の偏光子(318a)を用いる場合、方位偏光方向は配向層を担持する基板にわたり変化する。様々なタイプの偏光回転低減素子(318b)の導入および光源に対して適当なチルト角を選択することを始めとする、方位偏光変化を低減する様々な手法を採用し得る。さらにまた反射構造を光源と配向層との間に挿入し得る。反射構造の使用は配向層に入射する全光量を増加させるとともに、光源と偏光子との間に挿入した場合には偏光回転も低減し得る。
請求項（抜粋）：
目標領域の光学配向層を露光する光学露光システムであって、
第1の軸に平行な方向に細長い光源と、
前記光源から前記目標領域へ通過する光の少なくとも一部を偏光するように配置された第1の偏光子と、
前記第1の偏光子から前記目標領域に向けられた光の偏光の方位回転を制御するように、前記第1の偏光子と前記目標領域との間に配置された偏光回転補償素子と、を備える光学露光システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2H049BA02
, 2H049BA06
, 2H049BA45
, 2H049BB03
, 2H049BC21
, 2H090HB07Y
, 2H090HC13
, 2H090HD14
, 2H090KA04
, 2H090MB12
, 2H090MB14
