特許

J-GLOBAL ID：200903094079015725

処理液供給装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-221148
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064513
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 所定位置に位置されたノズルからの処理液の供給位置の調整を簡単な構成で、かつ、簡単な作業で実現できる処理液供給装置を提供する。【構成】 回転支持台1に支持された基板の周縁の外に位置する揺動支点を中心に処理液供給管7を水平面内で揺動し、処理液供給管7の先端部7cに取り付けられたノズル9と補助ノズル10を基板の周縁の外の待機位置と基板の上方との間で移動可能にし、処理液供給管7を経て供給された処理液をノズル9の処理液流通孔9d、補助ノズル10の処理液供給孔10aを経て補助ノズル10の供給端部から基板の表面に供給させる。補助ノズル10は、上端部側の処理液流通孔10aの内径軸心J1に対して供給端部側の処理液流通孔10aの内径軸心J2が偏心され、ノズル9のノズル先端部材9cに回動自在に嵌め付けられている。

請求項（抜粋）：

処理液供給管の先端部にノズルが取り付けられ、前記処理液供給管を経て供給された処理液を、前記ノズルの処理液流通孔を経て前記ノズルの供給端部から基板に供給する処理液供給装置において、前記ノズルは、前記処理液供給管に取り付けられる取付け端部側の前記処理液流通孔の内径軸心に対して、前記供給端部側の前記処理液流通孔の内径軸心を偏心させ、かつ、前記取付け端部側の前記処理液流通孔の内径軸心に対する前記供給端部側の前記処理液流通孔の内径軸心の位置関係を変位可能に構成したことを特徴とする処理液供給装置。

IPC (7件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502