特許

J-GLOBAL ID：200903094081934444

カルボン酸残基を片末端に有するポリオルガノシロキサンおよびその製造方法

発明者： 長瀬 裕 ,  青柳 隆夫 ,  渕上 高正 ,  秋元 倫子
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-325016
公開番号（公開出願番号）：特開平5-132556
出願日： 1991年11月14日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：

【要約】【目的】 良好な薬物の経皮吸収促進効果を有し、しかも低刺激性、低毒性の新規材料であるカルボン酸残基を片末端に有するポリオルガノシロキサンおよびその製造方法を提供する。【構成】 一般式(I)で表わされるカルボン酸残基を片末端に有するポリオルガノシロキサン、および一般式(II)で表わされるハロメチルフェニル基を片末端に有するポリオルガノシロキサンを第VIII族遷移金属触媒および塩基存在下水および一酸化炭素と反応させることを特徴とする該化合物の製造方法。【化17】【化18】(式中、R1〜R5は同一もしくは異なってもよく炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基、Yは炭素数2〜6の直鎖状もしくは分岐状の2価のアルキレン基、Xはハロゲン原子、nは1以上の整数である。ただし、R4およびR5は繰り返し単位ごとに同一または任意に異なってもよい。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)【化1】(式中、R1〜R5は同一もしくは異なってもよく炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基、Yは炭素数2〜6の直鎖状もしくは分岐状の2価のアルキレン基、nは1以上の整数である。ただし、R4およびR5は繰り返し単位ごとに同一または任意に異なってもよい。)で表されるカルボン酸残基を片末端に有するポリオルガノシロキサン。

IPC (3件)：

C08G 77/38 NUF ,  A61K 9/08 ,  A61K 47/34