特許
J-GLOBAL ID：200903094093896440
フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-210641
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054432
出願日： 1995年08月18日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【課題】フォトレジスト組成物の塗布性能、溶液安定性等を向上させる。【解決手段】フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)とポリオキシアルキレン基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(C)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物に関する。【効果】本発明に係るフォトレジスト組成物は、スピンコ-ト時にフォトレジスト組成物の塗布膜厚の触れやストリエ-ションの発生が無く均一な塗工が可能となる。
請求項（抜粋）：
フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/027 502
, G03F 7/038 505
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
G03F 7/027 502
, G03F 7/038 505
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
