フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-210641
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054432
出願日： 1995年08月18日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】フォトレジスト組成物の塗布性能、溶液安定性等を向上させる。【解決手段】フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)とポリオキシアルキレン基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(C)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物に関する。【効果】本発明に係るフォトレジスト組成物は、スピンコ-ト時にフォトレジスト組成物の塗布膜厚の触れやストリエ-ションの発生が無く均一な塗工が可能となる。

請求項（抜粋）：

フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/038 505 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/038 505 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (7件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-007759 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開昭62-226143
水性現像可能な組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-287802 出願人：ハーキュリーズ・インコーポレーテッド

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