特許

J-GLOBAL ID：200903094109872407

感圧式座標入力装置

発明者： 大塚 達美 ,  柴山 政雄 ,  中沢 文彦 ,  入江 克哉
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-226068
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084703
出願日： 1993年09月10日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】 導電層4,8を有する2枚の基板3,7を、導電層4,8同士を絶縁スペーサ12を介して対向させるように配置し、一方の基板に水平及び垂直方向に時分割で電圧を印加し、非印加側の他方の基板より、押圧による前記両導電層4,8間の接触位置の電位を検出することで、該接触位置の座標を求める感圧式座標入力装置に関し、ダイオード又は多点電極を用いることなく、単面感圧方式を実現することのできる感圧式座標入力装置を得ることを目的とする。【構成】 電圧印加を行う前記一方の基板の導電膜4を、高さが2段階で且つ絶縁膜42により相互に絶縁された下側導電膜41と上側導電膜43とで構成し、該絶縁膜と上側導電膜とを多孔状に構成すると共に、上側導電膜と下側導電膜の一方に水平方向、他方に垂直方向の電圧を印加するようにした感圧式座標入力装置を構成する。

請求項（抜粋）：

導電膜(4、8)を有する上下2枚の基板(3、7)を、導電膜(4、8)同士が絶縁スペーサ(12)を介して対向するように配置し、一方の基板に水平及び垂直方向に時分割で電圧を印加し、非印加側の他方の基板より、押圧による前記両導電膜(4、8)間の接触位置の電位を検出することで、該接触位置の座標を求める感圧式座標入力装置において、電圧印加を行う前記一方の基板の導電膜(4)を、高さが2段階で且つ絶縁膜(42)により相互に絶縁された下側導電膜(41)と上側導電膜(43)とで構成し、該絶縁膜(42)と上側導電膜(43)とを多孔状に構成すると共に、下側導電膜(41)と上側導電膜(43)の一方に水平方向、他方に垂直方向の電圧を印加するようにした感圧式座標入力装置。