特許
J-GLOBAL ID：200903094110163118
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-264838
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122538
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置の異常放電を防止する。【構成】 石英チャンバー6は略ベルジャー型をなし、上半の小径部外周に高周波電源につながる筒状の上部電極7を設けている。また、前記排気リング4の上面にはその外周端が石英チャンバー6の内周面に当接する石英製の絶縁リング8を取り付け、石英チャンバー6の下部外周面にはリング状のグランド電極9を設けている。
請求項（抜粋）：
チャンバーの下方に被処理物のステージを兼ねる下部電極を臨ませ、また前記チャンバーの上部の内側または外側に上部電極を設けたプラズマ処理装置において、前記チャンバー内で下部電極の周囲には排気リングが設けられ、また前記チャンバーの下部外周にはリング状のグランド電極が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/205
