薄膜製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-114630
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330317
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：

【要約】【目的】堆積された被膜表面に傷の発生のない薄膜製造装置を得る。【構成】可撓性フィルム基板60を加熱する加熱ドラム21と31と41と、各加熱ドラムから引き出された可撓性フィルム基板の搬送方向を制御するタッチロール23と33と43とを備える。製膜は、薄膜堆積を行う反応室内で回転する各加熱ドラムに可撓性フィルム基板60を巻きかけて搬送しつつ、可撓性フィルム基板上に薄膜を連続して堆積する。その際に、反応室内の真空度を圧力1.33kPa以下にするとともに、各加熱ドラムの表面温度Td(°C)に対して、各加熱ドラム直後の各タッチロールの表面温度Tt(°C)を、Td-100 <Tt<Tdの範囲に温度制御する。

請求項（抜粋）：

可撓性フィルム基板を加熱する加熱ドラムと、加熱ドラムから引き出された可撓性フィルム基板の搬送方向を制御するタッチロールを備え、薄膜堆積を行う反応室内で回転する加熱ドラムに可撓性フィルム基板を巻きかけて搬送しつつ、可撓性フィルム基板上に薄膜を連続して堆積する薄膜製造装置において、反応室内の真空度を圧力1.33kPa以下にするとともに、加熱ドラムの表面温度Td(°C)に対して、加熱ドラム直後のタッチロールの表面温度Tt(°C)を、Td-100 <Tt<Tdの範囲に温度制御することを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 , C23C 14/20

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-183165
特開昭62-112226
特開昭62-111718

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