特許
J-GLOBAL ID：200903094155699159
空間光変調素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
二瓶 正敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-339447
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159788
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 光変調層を構成する垂直配向型の液晶層を均一に形成し、駆動時のむらの発生を防止することが可能な空間光変調素子の製造方法を提供する。【構成】 透明電極、光導電層、および誘電体ミラー層が形成された基板Aと透明電極のみが形成されたガラス基板Bを、それぞれ蒸発源11に体して角度θだけ傾けて配置し、イオンガン12によるイオンビーム照射を行いながらSiO2を蒸着して配向下地膜を形成する。続いて、配向下地膜上に有機物質を被覆することにより垂直配向膜を形成する。このようにして配向下地膜、垂直配向膜を形成したガラス基板A、Bをスペーサを介して貼り合わせ、光変調層8となる液晶が注入されて空間光変調素子が完成する。
請求項（抜粋）：
基板上に垂直配向型の液晶を用いた光変調層が形成された空間光変調素子の製造方法において、前記光変調層を構成する液晶を垂直配向させるための配向下地膜をイオンビームアシストした斜方蒸着膜で形成した後、前記斜方蒸着膜の表面を有機物で被覆して垂直配向膜を形成する工程を含むことを特徴とする空間光変調素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1337 505
, H04N 5/66 102
