特許

J-GLOBAL ID：200903094167750745

毛髪化粧料

発明者： 浅見 路子 ,  三田 勝巳
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-214277
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059440
出願日： 1994年08月15日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】 ヘアスタイルをしっとりとまとまるように仕上げるともに毛髪につやを賦与することができ、また、時間経過後も髪の乾燥を防いで毛髪をパサつかせず、しっとりとした感触や滑らかな感触を賦与することができ、更に、枝毛、切毛及び変色等のダメージが毛髪に生じないようにすることができる毛髪化粧料を提供する。【構成】 特定の疎水性基と親水性基とを有する両親媒性のシロキサン誘導体と、それとは異なるシロキサン誘導体とから毛髪化粧料を構成する。

請求項（抜粋）：

(A) 次の一般式(I)【化1】〔式中、R1〜R12のうち、少なくとも1つは次式(II)【化2】(式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基であり、R13及びR14はそれぞれ独立的に水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基である。但し、R13及びR14の少なくとも一方は水素原子である。)で表される基であり、残りがそれぞれ独立的に炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭化水素基又は次式(III)【化3】(式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含む二価炭化水素基であり、R15は炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基である。)で表される基であり、l、m及びnは独立的に0以上2000以下の数である。但し、R1〜R12のうちの1つが式(II)の基であり、残りがメチル基である場合、式(II)中のQがトリメチレンのときにR13及びR14は同時に水素原子ではない。〕で表されるシロキサン誘導体;及び(B) 成分(A)と異なるシロキサン誘導体を含有することを特徴とする毛髪化粧料。

IPC (2件)：

A61K 7/06 ,  A61K 7/11