特許

J-GLOBAL ID：200903094173572492

成膜装置

発明者： 前田 祐二 ,  東海 暢男 ,  西里 洋 ,  中西 孝之
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332632
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151413
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：

【要約】【課題】 簡易な構成により、膜厚の粗密依存性を低減して、パターンの粗密にかかわらず、比較的均一な膜厚の薄膜を形成する。【解決手段】 チャンバ2内に、ウェハ5を載置するヒータ3と、該ヒータ3の上方に間隔を開けて配置され、チャンバ2内に供給された原料ガスをウェハ5の上方から供給するシャワーヘッド4とを具備するとともに、ヒータ3とシャワーヘッド4との間に、両者の間隔を調節するためのスペーサ11を設けた成膜装置1を提供する。

請求項（抜粋）：

チャンバ内に、ウェハを載置するヒータと、該ヒータの上方に間隔を開けて配置され、チャンバ内に供給された原料ガスをウェハの上方から供給するシャワーヘッドとを具備するとともに、前記ヒータと前記シャワーヘッドとの間に、両者の間隔を調節するためのスペーサが設けられていることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/46

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B ,  C23C 16/46

Fターム (22件)：

4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030BA40 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030KA23 ,  5F045AB02 ,  5F045AC01 ,  5F045AC03 ,  5F045AC05 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EF05 ,  5F045EK09 ,  5F045EK23 ,  5F045EM10